包括用于极紫外光刻中心开发
Posted: Sat Dec 21, 2024 7:25 am
2024 年大多数 ASML 机器（雅虎新闻，2023 年）。 $10B 在纽约，州长 Kathy Hochul 宣布在奥尔巴尼纳米技术综合体创建国家 EUV 中心，这是 IBM 与纽约州以及其他行业和学术合作伙伴之间的合作。 该中心将成为北美第一个拥有 EUV 高 NA 系统的公有研发中心，位于一栋名为 NanoFab Reflection 的新建筑中。纽约州及其合作伙伴为此投资了 100 亿美元，旨在推动美国的半导体研究和生产并创造大量就业机会。
奥尔巴尼纳米技术公司的高 NA EUV 系统将类似于未来制造设施中使用的高 NA EUV 工具，确保在那里开发的工艺和设计可以转移到未来的电子设备（IBM 研究博客，2024）。 与此同时，imec 和三井化学宣布建立战略 购买马约特岛电子邮件地址 合作伙伴关系，将下一代 EUV 光刻系统的关键组件商业化。他们专注于由碳纳米管 (CNT) 制成的 EUV 颗粒，这种颗粒以其强大的机械和热性能而闻名。 基于 CNT 的颗粒拥有超过 94% 的 EUV 光透射率，并且可以承受超过 1000 W 的 EUV 功率水平。
随着行业朝着超过 600 W 的光刻光源发展，从而实现更高质量的纳米级，这一发展至关重要（Optica-OPN，2024）。 日立高新技术推出GT2000 日立高新技术推出了 GT2000，这是一款高精度电子束计量系统，专为高数值孔径 EUV 一代半导体器件的开发和批量生产而设计。 GT2000具有针对先进3D半导体器件的新型检测系统、针对高NA EUV抗蚀剂晶圆的高损耗低损耗多点测量功能，旨在提高批量生产的生产率。它是专门针对先进半导体器件的小型化和复杂性而开发的。
奥尔巴尼纳米技术公司的高 NA EUV 系统将类似于未来制造设施中使用的高 NA EUV 工具，确保在那里开发的工艺和设计可以转移到未来的电子设备（IBM 研究博客，2024）。 与此同时，imec 和三井化学宣布建立战略 购买马约特岛电子邮件地址 合作伙伴关系，将下一代 EUV 光刻系统的关键组件商业化。他们专注于由碳纳米管 (CNT) 制成的 EUV 颗粒，这种颗粒以其强大的机械和热性能而闻名。 基于 CNT 的颗粒拥有超过 94% 的 EUV 光透射率，并且可以承受超过 1000 W 的 EUV 功率水平。
随着行业朝着超过 600 W 的光刻光源发展，从而实现更高质量的纳米级，这一发展至关重要（Optica-OPN，2024）。 日立高新技术推出GT2000 日立高新技术推出了 GT2000，这是一款高精度电子束计量系统，专为高数值孔径 EUV 一代半导体器件的开发和批量生产而设计。 GT2000具有针对先进3D半导体器件的新型检测系统、针对高NA EUV抗蚀剂晶圆的高损耗低损耗多点测量功能，旨在提高批量生产的生产率。它是专门针对先进半导体器件的小型化和复杂性而开发的。